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      就其外在表現(xiàn)形式來講，射頻識(shí)別技術(shù)的載體一般都是要具有防水、防磁、耐高溫等特點(diǎn)，保證射頻識(shí)別技術(shù)在應(yīng)用時(shí)具有穩(wěn)定性。就其使用來講，射頻識(shí)別在實(shí)時(shí)更新資料、存儲(chǔ)信息量、使用壽命、工作效率、安全性等方面都具有優(yōu)勢(shì)。射頻識(shí)別能夠在減少人力物力財(cái)力的前提下，更便利的更新現(xiàn)有的資料，使工作更加便捷；射頻識(shí)別技術(shù)依據(jù)電腦等對(duì)信息進(jìn)行存儲(chǔ)，最大可達(dá)數(shù)兆字節(jié)，可存儲(chǔ)信息量大，保證工作的順利進(jìn)行；射頻識(shí)別技術(shù)的使用壽命長(zhǎng)，只要工作人員在使用時(shí)注意保護(hù)，它就可以進(jìn)行重復(fù)使用；射頻識(shí)別技術(shù)改變了從前對(duì)信息處理的不便捷，實(shí)現(xiàn)了多目標(biāo)同時(shí)被識(shí)別，大大提高了工作效率；而射頻識(shí)別同時(shí)設(shè)有密碼保護(hù)，不易被偽造，安全性較高

      匯成真空鍍膜設(shè)備為緊湊型在線式設(shè)備，基片載片器以直立方式穿過設(shè)備內(nèi)部。每次可向同一進(jìn)樣室裝入12-16片基片。進(jìn)樣室為圓形結(jié)構(gòu)，配備帶動(dòng)載片器沿縱軸旋轉(zhuǎn)的裝置，用于保障基片邊緣也能夠被鍍膜。工藝腔室包含一個(gè)用于預(yù)清洗和基片表面活化(以實(shí)現(xiàn)更佳的黏附力)的刻蝕單元和兩個(gè)用于金屬沉積工藝的平面DC濺射源，腔室將持續(xù)泵抽。根據(jù)反應(yīng)工藝配方不同，載片器將按預(yù)先設(shè)定的速度和頻率在上述工藝端口前方移動(dòng)。維護(hù)作業(yè)時(shí)，工藝單元將被轉(zhuǎn)動(dòng)到大腔室門位置，以便于操作。工藝腔室的終端位置配備大型盲法蘭，用于滿足未來增配工藝腔室的需要。