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鍍鉻是賦予產(chǎn)品高機(jī)械性能的理想鍍膜方式，同時(shí)具有吸引人的金屬外觀和美學(xué)沖擊力，從而增加了產(chǎn)品的附加值。與傳統(tǒng)電鍍相比，UV-PVD組合更安全，更經(jīng)濟(jì)，更環(huán)保，傳統(tǒng)電鍍因此逐漸被淘汰。

采用真空濺射技術(shù)，徹底消除有害排放物，發(fā)展了環(huán)保鍍鉻代替電鍍處理。流程周期非常快，其卓越的性能轉(zhuǎn)化為高效、經(jīng)濟(jì)的綠色生產(chǎn)。UV-PVD鍍鉻工藝是環(huán)保的，它在常溫下工作，沒有水消耗和化學(xué)排放，通過減少生產(chǎn)時(shí)間，重復(fù)周期和缺陷最小化，保證了高成本效益的加工周期，低成本消耗和高生產(chǎn)率。

除鉻涂層外，還可以鍍銀，在色彩和效果方面提供非常廣闊的設(shè)計(jì)選擇和設(shè)計(jì)色彩的多樣性。

      類金剛石涂層經(jīng)常適用于汽車引擎以減少發(fā)動(dòng)機(jī)的摩擦，黑色的色彩使DLC涂層在作為裝飾涂層(如:手表)上受到廣泛歡迎，并且由于其較低摩擦和無粘連系數(shù)，使其很好的運(yùn)用在工具涂層。DLC涂層技術(shù)非常適用于機(jī)械的加工和鑄造/鍛造，以及鋁及塑料注塑模具的涂層。

類金剛石(DLC)涂層技術(shù)：

      不同類型的類金剛石涂層，具有不同的生產(chǎn)技術(shù)。DLC涂層適用于極端磨損情況和高相對(duì)速度，甚至是在無潤(rùn)滑運(yùn)轉(zhuǎn)的條件下使用，具有卓越的耐磨蝕性、抗摩擦氧化性和附著性（防磨損），可承受在正常條件下會(huì)立刻導(dǎo)致磨損和冷焊的表面壓力，將摩擦損失降至最小，良好的耐腐蝕性使基體免受破壞性攻擊。

一次走帶完成PET/PP雙面鍍膜的PVD卷繞鍍膜設(shè)備，高致密、附著力強(qiáng)的金屬膜，高精度卷繞系統(tǒng)，低張力控制，基材特殊展平效果，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能批量化生產(chǎn)。

超薄復(fù)合銅箔PVD RTR鍍膜設(shè)備：

實(shí)現(xiàn)在厚度3.0～4.5μm、幅寬600～1650mm的PET/PP塑料薄膜表面一次完成雙面鍍銅膜，“PVD銅-高分子支撐層-PVD銅”三明治結(jié)構(gòu)，設(shè)備工藝走速0.5-30m/min。

超薄復(fù)合鋁箔PVD RTR鍍膜設(shè)備：

實(shí)現(xiàn)在厚度4.5～6.0μm、幅寬600～1700mm的PET/PP塑料薄膜表面雙面鍍鋁膜，“PVD鋁-高分子支撐層-PVD鋁”三明治結(jié)構(gòu)，設(shè)備工藝走速30-100m/min，攻克大規(guī)模快速蒸發(fā)沉積厚鋁膜難關(guān)。

HCVAC將碳基涂層工藝和真空鍍膜設(shè)備技術(shù)方面的長(zhǎng)期經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用于燃料電池的金屬雙極板。通過在涂層腔體中實(shí)施等離子體表面清潔和特殊結(jié)合層,已經(jīng)獲得了在結(jié)合力、導(dǎo)電性和耐腐蝕性方面的良好結(jié)果。

公司主要給市場(chǎng)提供金屬雙極板涂層設(shè)備為主,可以根據(jù)客戶需要提供涂層材料,包括石墨及貴金屬。小批量實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)設(shè)備和大批量生產(chǎn)的成本價(jià)值與工業(yè)路線非常一致。

HCVAC抗菌涂層結(jié)合了PVD涂層的強(qiáng)度、耐用性和美觀，具有卓越抗菌性能，它的抗菌特性可抑制表面可能感染的病原體增殖，所有可能與人接觸的日常物品都需要這類型的涂層。

得益于HCVAC開發(fā)的創(chuàng)新涂層工藝，抗菌涂層不僅能夠完全抑制細(xì)菌的生長(zhǎng)，還能消除它們，確保表面完全衛(wèi)生。

通過精確實(shí)驗(yàn)室測(cè)試證明的這種抗菌效率是由于多層涂層復(fù)雜結(jié)構(gòu)中的納米嵌入引起的，該涂層通過阻斷其營(yíng)養(yǎng)并中斷細(xì)胞分裂周期來破壞細(xì)菌細(xì)胞膜。

抗菌和抗病毒作用

由于涂層的物理特性，抗菌作用持續(xù)貫穿物體整個(gè)使用壽命，并隨著時(shí)間的推移而改善。

得益于其抗病毒作用，這是一種完全低過敏性產(chǎn)品。此外，根據(jù)DM 3/21/1973測(cè)試，該涂層對(duì)人體接觸是完全安全的。

抗菌顏色和基材

HCVAC抗菌涂層的抗菌特性與PVD涂層美學(xué)品質(zhì)相結(jié)合：硬度、抗紫外線、高顏色穩(wěn)定性和耐刮擦性。

抗菌涂層可應(yīng)用于許多不同類型的基材：黑色金屬和有色金屬、ABS 和聚碳酸酯等聚合物（經(jīng)過適當(dāng)?shù)念A(yù)處理）。

實(shí)驗(yàn)室測(cè)試

HCVAC抗菌涂層的功效針對(duì)大腸桿菌（革蘭氏陰性）和金黃色葡萄球菌（革蘭氏陽性）菌株的細(xì)菌進(jìn)行了測(cè)試，這兩種細(xì)菌都屬于對(duì)“接觸感染”最大責(zé)任的流行細(xì)菌家族，在新生產(chǎn)的樣品和已經(jīng)使用了很長(zhǎng)時(shí)間的產(chǎn)品上均取得優(yōu)異的結(jié)果。

熱障涂層是先進(jìn)航空發(fā)動(dòng)機(jī)和地面燃?xì)廨啓C(jī)研制的關(guān)鍵技術(shù)，由隔熱性能優(yōu)良的陶瓷面層和起粘接作用的金屬底層構(gòu)成，可以避免高溫燃?xì)馀c金屬基體直接接觸，對(duì)基體形成有效保護(hù)，起到延長(zhǎng)發(fā)動(dòng)機(jī)工作壽命、提高燃燒效率的作用。

PS-PVD用快速熱噴涂的方法實(shí)現(xiàn)了大面積、均勻化的物理氣相沉積。通過改變等離子射流狀態(tài)，PS-PVD還可以實(shí)現(xiàn)多相復(fù)合涂層的沉積，拓展了不同組織結(jié)構(gòu)熱障涂層的設(shè)計(jì)與制備。更為重要的是，PS-PVD的等離子射流具有良好的繞鍍性，可以在外形復(fù)雜的工件表面實(shí)現(xiàn)非視線熱障涂層沉積。

激光雷達(dá)廣泛應(yīng)用于無人駕駛及無人機(jī)等領(lǐng)域，激光雷達(dá)系統(tǒng)包括一個(gè)單束窄帶激光器和一個(gè)接受器，可見窄帶濾光片在激光雷達(dá)中有著舉足輕重的位置，在未來的應(yīng)用將更加廣泛。

激光雷達(dá)是以發(fā)射光束探測(cè)目標(biāo)的位置、速度等特征量的雷達(dá)系統(tǒng)。

相當(dāng)于我們的眼睛，具有很強(qiáng)大復(fù)雜的信息感知和處理能力。

激發(fā)光雷達(dá)在很多年前就被廣泛應(yīng)用于飛機(jī)避障、偵查成像、導(dǎo)彈制導(dǎo)等領(lǐng)域，應(yīng)用場(chǎng)景極為豐富。

鏡頭專用IR-CUT濾光片是指半導(dǎo)體感光元件（CCD或CMOS）前面可濾除紅外光，以使鏡頭圖像再現(xiàn)色彩與實(shí)際色彩相一致。最常用的是650nm截止型濾光片。

?   UV/IR截止濾光片用于去除不需要的紫外線和紅外線！

要點(diǎn)：
● 用來防止雜散光造成的失靈和紫外線造成的老化。
● 用于除去CMOS/CCD感應(yīng)器的近紅外線、云紋
● 用于防止雜散光引起的失誤以及紫外線造成的劣化
● 低顆粒，高透光率，霧度降低是很重要的。

目前AR膜主要應(yīng)用于望遠(yuǎn)鏡、眼鏡、數(shù)字相機(jī)鏡頭、LCD投影系統(tǒng)、光學(xué)窗口、保護(hù)鏡、筆記本、電腦、手機(jī)、電視、眼鏡、觸摸屏等。

從結(jié)構(gòu)上分，AR膜也可以分為單層減反膜和多層減反膜：

單層減反膜為了減小表面反射光，最簡(jiǎn)單的途徑是在基材表面上鍍一層低折射率的薄膜。

多層減反膜在薄膜上鍍兩層以上反射材料的稱為多層AR膜，多層比單層有更好的性能。

      AF/AS鍍膜，即防污膜（AS），防指紋膜（AF膜），主要是通過真空鍍膜的技術(shù)將有機(jī)氟化物材料沉積到各類玻璃或有機(jī)玻璃PC、PMMA、PET等基材上，使基材表面具有防水，防油，防刮，防指紋，防污染等功能。

      疏水涂層是一種新的進(jìn)步，可以添加到我們的鍍膜玻璃中，從而形成防水光學(xué)器件，疏水涂層與玻璃結(jié)合，形成防污，防灰塵，油脂和液體的屏障，涂層是非酸性的，它允許使用抹布清潔玻璃，而無需使用清潔液，這種防水玻璃涂層非常適合觸摸屏。

      廣泛應(yīng)用于數(shù)碼產(chǎn)品，手表，五金等玻璃，金屬，塑料，陶瓷材質(zhì)的面板，零件表面，及其裝飾和功能薄膜上加鍍AF，AS涂層，提高表面硬度，光滑度，耐磨性，耐化學(xué)性和易清潔性。

AS/AF膜測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：
■   初始接觸角范圍為 115±5°；
■   鋼絲絨耐摩擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負(fù)載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
■   橡皮擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負(fù)載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測(cè)試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。

通過磁控濺射方式鍍制DLC硬膜，莫式硬度大于8，鉛筆硬度大于9H，薄膜硬度接近于藍(lán)寶石玻璃，薄膜透過率大于99.4%，鋼絲絨耐磨（@1KG 10mm×10mm>8000次）無劃痕，橡皮擦+酒精耐磨>5000次無損傷，可與AF有效良好結(jié)合。

AR 膜（基材玻璃透過率＞91.5%）：
■  420-680nm波段，單面平均透過率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■  雙面平均透過率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；

AS/AF膜測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：
■   初始接觸角范圍為 115±5°；
■   鋼絲絨耐摩擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負(fù)載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
■   橡皮擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負(fù)載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測(cè)試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。

匯成真空可以通過在末端，中跨度或窗口上生產(chǎn)單個(gè)或多層對(duì)稱的金屬涂層，將光纖與鈦/鉑/金一起金屬化，用于密封的光電封裝。 我們的專家還可以在圓柱桿或管組件上創(chuàng)建徑向?qū)ΨQ的物質(zhì)堆棧。

功能和特點(diǎn)：

- 低溫沉積避免了塑料對(duì)光纖的損壞。

- 涂層在整個(gè)光纖周圍具有良好的均勻性，以進(jìn)行準(zhǔn)確的光纖對(duì)齊。

- 在涂層之前由清潔前一步產(chǎn)生的出色粘附強(qiáng)度。

- 負(fù)載鎖定的系統(tǒng)允許涂層外套和連接的組件。

- 重新涂層光纖布拉格光柵。

- 拋光末端的反射和受保護(hù)的鏡涂層。

ICP電感耦合等離子體

相對(duì)于傳統(tǒng)磁控濺射，ICP濺射光學(xué)鍍膜，采用先金屬化濺射，再通過離化反應(yīng)氣體與金屬薄膜反應(yīng)化合成介質(zhì)薄膜，其工藝腔體在一個(gè)PM（維護(hù)保養(yǎng)）周期內(nèi)始終保持真空，提供一個(gè)穩(wěn)定可靠的鍍膜環(huán)境，而且生產(chǎn)效率更高。 適用于在玻璃，塑料等基材的平面或曲面鍍制AR，超硬AR，BBAR膜層，鏡面，NCVM，濾光片等光學(xué)膜的鍍膜，還可以實(shí)現(xiàn)AF/AS膜的鍍制。 蒸發(fā)/濺射工藝制程中基材清潔和輔助沉積采用ICP源：

電子槍輔助：可通多種氣體，除了做輔助外，有些應(yīng)用在鍍完后可做一層DLC進(jìn)行保護(hù)；

PVD輔助：主要可用于補(bǔ)氧、補(bǔ)氮一類的應(yīng)用，適合做氧化物和氮化物。在使用金屬靶高速濺射的情況下使用ICP源補(bǔ)氧或氮進(jìn)行氧化或氮化，以實(shí)現(xiàn)通過磁控濺射的手段快速制備高精密光學(xué)薄膜。

ICP的優(yōu)勢(shì)：

提高等離子密度，尤其是惰性反應(yīng)氣體的離化率

高能粒子轟擊，提高薄膜致密度

提高成膜質(zhì)量，可避免高溫工藝

改變薄膜晶體結(jié)構(gòu)從而改變薄膜化學(xué)或電學(xué)性能

CCP電容耦合等離子體

電容耦合等離子體的工作原理與電感耦合等離子體不同。電容耦合方式是由接地的放電室(由復(fù)合系數(shù)很小的材料如石英做成)和引入的驅(qū)動(dòng)電極作為耦合元件。驅(qū)動(dòng)電極上鍍有濺射產(chǎn)額較低的陶瓷材料以減少離子的對(duì)陰極材料的濺射。當(dāng)與電源接通后,在放電室和驅(qū)動(dòng)電極之間產(chǎn)生高頻電場(chǎng),自由電子在此作用下做上下往復(fù)運(yùn)動(dòng),并激發(fā)放電。由于電子的自由程遠(yuǎn)大于放電室的尺寸,因此主要靠它們從管壁上打出的二次電子而獲得倍增,后者成為這種放電的維持者,而由氣體電離所產(chǎn)生的二次電子將起次要作用。

RF 離子源
為反應(yīng)性工藝（例如高度控制的光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積或離子束沉積）提供寬而均勻的離子束源。
在惰性和氧化環(huán)境中均能實(shí)現(xiàn)可靠一致的操作。
穩(wěn)定高效的等離子體操作具有精確控制能力并允許高重復(fù)性。
非常適合于負(fù)載鎖定生產(chǎn)工藝。
無極放電，壽命長(zhǎng)，工作長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定。
工作高度達(dá)1米。
離子能量及離子束流密度可以精確控制且變化范圍大。

霍爾離子源
專為真空鍍膜制程提供高射束電流，從而提高制程均勻性并防止基材受損，實(shí)現(xiàn)表面預(yù)清潔、輔助沉積及選擇性蝕刻。
對(duì)需要高電流、低能量離子的應(yīng)用非常有效。
高射束電流對(duì)于控制薄膜應(yīng)力和化學(xué)計(jì)量特別有用。
離子能量發(fā)散，離子束發(fā)散，有較大均勻區(qū)。
離子能量低，離子束流密度較大。
結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，拆卸方便。

考夫曼離子源
離子能量，束密可精確控制，不受環(huán)境影響。
放氣量小，污染較小。
工作溫升低，可冷鍍。

     獨(dú)特的頻率測(cè)量系統(tǒng)，提供穩(wěn)定、高分辨率的速率和厚度測(cè)量，賦予監(jiān)控過程卓越的可重復(fù)性。通過沉積控制器，可利用 QCM 傳感器對(duì)沉積過程實(shí)現(xiàn)速率控制。匯成真空可按您的要求為您提供具有從最基本到最齊全功能的任何沉積控制器。

      即使在速率極低的情況下也可確保獲得最高、最穩(wěn)定的速率和厚度測(cè)量分辨率，通過自動(dòng)測(cè)定沉積材料的比值，可提高厚度測(cè)量的精度，支持多個(gè)來源同時(shí)共沉積，USB 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能可存儲(chǔ)屏幕截圖、配方存儲(chǔ)和數(shù)據(jù)記錄。

      通過光學(xué)膜厚監(jiān)控儀，您可以極其準(zhǔn)確地控制沉積速度和厚度，能夠達(dá)到幾乎任何層數(shù)，安裝輕松且可靠性極高，從而確保生產(chǎn)效率。匯成真空提供了一種擁有成本極低的儀表，為您帶來前所未有的價(jià)值。無論您的控制需要屬于生產(chǎn)還是研發(fā)領(lǐng)域，都能從光學(xué)膜厚監(jiān)控儀中找到完美的解決方案。